巖征儀器生產銷售高壓光催化反應釜、實驗室光催化反應釜等多個系列產品。產品可記錄和采集所有數據，如溫度、壓力、時間，攪拌速度等，并以EXCEL表的形式保存為物理文件，可方便用戶隨時查看分析。模塊式的設計，自由升級的特性，滿足客戶特殊需求。多重安全報警聯(lián)鎖，設備運轉更加安全可靠。產品適用于制藥、化工、石油、材料、環(huán)境、冶金等精細化工領域。具體如加氫催化、聚合、超臨界反高溫高壓合成、超聲萃取，超聲處理，制藥光催化，光電催化，二氧化碳超臨界、低溫等。

上海巖征生產的光化學高壓反應釜，使用溫度300℃內，使用壓力：10mpa,適用于光化學高壓反應、二氧化碳（CO2）還原、二氧化碳（CO2）還原制甲醇（CH3OH）、二氧化碳（CO2）還原制甲烷（CH4）、氮氧化物（Nox）的還原降解、甲醛的高壓光催化降解等領域

設計參數：

加熱功率 ：1000W

設計溫度： 300℃

使用溫度： 50~250℃(50ML 使用 200℃)

控溫精度： ±1℃ (無強放熱吸熱情況下)

設計壓力： 150bar

爆破壓力 ：125bar

使用壓力 ≤100bar (注 1)

標準材質： 316L (注 2)

攪拌速度： 150~1000r/min

特點：

支持多工位對比實驗；

具備探底管取樣功能；

支持催化劑過濾；

LCD 真彩色全觸摸操作界面；

鑄銅加熱器，均熱性高，傳熱快；

支持保溫計時和啟動計時，雙計時模式；

具備安全聯(lián)鎖功能，超溫超壓報警；

支持懸浮攪拌，避免攪拌子底部磨損和催化劑磨損；